TA1高純钛靶99.9%钛圓靶濺射圓靶
钛靶材
TA1高純钛靶99.9%钛圓靶濺射圓靶
钛含量≥:99.8(%) 雜質含量:0.02(%) 重量:不等(kg/塊)
牌号:TA0,TA1,TA2,TA3,TC4(Ti6AL4V),GR1,GR2,GR3,GR5( Ti6AL4V)
钛圓靶 :技術條件:符合GB/T2695-1996,ASTMB348-97
钛闆靶 :技術條件:符合GB/T3621-94,ASTM B265-93
用途:用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面塗層,玻璃鍍膜工業
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